Vad är Chemical Vapor Deposition?

Chemical Vapor Deposition (CVD) är en tunnfilmsteknik som startade på kemiska institutionen 1972. Sedan dess har den haft en stark ställning både på Uppsala Universitet och internationellt. CVD innebär att ett fast material deponeras på ett, vanligen uppvärmt, substrat som en film.

Exempel på områden där tekniken används är inom elektronikindustrin och som ett slitstarkt skikt inom verkstadsindustrin. Svensk hårdmetallindustri är idag världsledande inom slitstarka skikt.

Projektgrupper
  • Uppsala Universitet
  • Chalmers
  • Kungliga Tekniska Högskolan
  • Sandvik Coromant
  • Seco Tools

Vi som jobbar med CVD 2.0

Forskningen ska bedrivas tillsammans med grupper på Chalmers, KTH, Sandvik Coromant AB och Seco Tools AB i ett gemensamt konsortium, CVD 2.0.

CVD-gruppen på programmet oorganisk kemi kommer även att samarbeta med andra tunnfilmsgrupper på Ångströmslaboratoriet och ingå i tunnfilmsgruppen som leds av Ulf Jansson (programansvarig på oorganisk kemi).

Skriv ut