Chemical Vapor Deposition
CVD 2.0 (Chemical Vapor Deposition) är ett konsortium som ämnar utveckla tidigare CVD-processer. Vår huvudpartner är SSF som har bidragit till att göra detta konsortium möjligt.
Vad är Chemical Vapor Deposition?
Chemical Vapor Deposition (CVD) är en tunnfilmsteknik som startade på kemiska institutionen 1972. Sedan dess har den haft en stark ställning både på Uppsala Universitet och internationellt. CVD innebär att ett fast material deponeras på ett, vanligen uppvärmt, substrat som en film. Exempel på områden där tekniken används är inom elektronikindustrin och som ett slitstarkt skikt inom verkstadsindustrin.
Svensk hårdmetallindustri är idag världsledande inom slitstarka skikt. Det är inom detta område som forskningen ska bedrivas tillsammans med grupper på Chalmers, KTH, Sandvik Coromant AB och Seco Tools AB i ett gemensamt konsortium, CVD 2.0.
